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SK하이닉스, 제5회 혁신특허포상 실시

NSP통신, 이복현 기자, 2022-11-08 11:12 KRD7
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NSP통신- (SK하이닉스)
(SK하이닉스)

(서울=NSP통신) 이복현 기자 = SK하이닉스가 회사 성장과 기술혁신에 기여한 특허를 발명한 구성원에게 포상을 실시하는 ‘혁신특허포상’ 시상식을 지난 7일 개최했다.

올해로 5회째를 맞은 혁신특허포상 시상식은 지속경영담당 김윤욱 부사장, 특허담당 민경현 부사장 등 담당 임직원들이 수상자들의 소속 조직이 있는 현장으로 직접 찾아가는 방식으로 진행됐다.

이번 시상식의 최고상(금상)은 총 2건으로, DRAM 내부의 회로를 개선해 소비 전력을 낮춘 DRAM개발 신범주 TL과 DRAM 내부의 불순물을 제거해 소자 신뢰성을 높인 미래기술연구원 황선환 TL, 장세억 SKHU(SK Hynix University, 사내대학) 교수가 수상했다.

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SK하이닉스는 이외에도 NAND, Solution, Package 등 다양한 기술 분야에 걸쳐 총 10건(금상 2건, 은상 3건, 동상 5건)의 혁신특허를 선정하고, 이를 발명한 구성원 19명에게 상패와 총 상금 2억1500만 원을 수여했다.

SK하이닉스는 2018년부터 매년 혁신특허포상 제도를 실시해 회사의 매출과 기술혁신에 크게 기여한 특허를 선정, 이를 발명한 구성원을 포상하고 있다.

SK하이닉스는 이 제도를 기반으로 글로벌 일류 기술기업으로 나아가기 위한 강한 특허를 지속적으로 발굴해 나간다는 계획이다.

NSP통신 이복현 기자 bhlee2016@nspna.com
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